Erfahren Sie im Vortrag von Dr. Martin Nalbach (ZEISS), warum absolute Sauberkeit ein entscheidender Faktor für die Herstellung der weltweit präzisesten EUV-Lithographieoptiken ist.
Die Anforderungen an Sauberkeit in der Halbleiterfertigung sind extrem hoch – selbst kleinste Verunreinigungen können die Leistungsfähigkeit von High-End-Optiken beeinträchtigen. ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) setzt daher auf hochentwickelte Reinheitsstandards und innovative technische Lösungen, um die Qualität und Präzision dieser essenziellen Komponenten sicherzustellen.
• Einblick in die ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology – Wie entstehen die präzisesten Spiegel der Welt?
• Sauberkeitsanforderungen – Welche Standards gelten in der Lithographieoptikherstellung?
• Technische Lösungen – Welche innovativen Methoden nutzt ZEISS für maximale Reinheit
18:00 - 19:30 Uhr: Einführung in dieGrundlagen der Technischen Sauberkeit nach VDA 19 Teil 1 und 2
Moderation: Volker Burger, Geschäftsführer, CleanControlling
Dieser Grundlagenworkshop dient der Vorbereitung auf die nachfolgende Fachtagung und deren Vorträge und soll den Einstieg für Teilnehmer, die sich neu mit dem Thema Technische Sauberkeit befassen, erleichtern.